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枚葉式濕式プロセス設備

枚葉式シート取り洗浄機

特徴：

メイン生産ライン：本設備は主に濕式法洗浄プロセスモジュール+スピンドル回転システムモジュール、洗浄アームスキャン回転システムモジュール、N2乾燥システムモジュール、液體供給システムモジュール、空気清浄（イオンファン付き）及び靜電除去システムモジュール、安全消防システムモジュール、電気コントロールシステムモジュール等で構成する。本設備の電気コントロール部分の肝心な部品は全て上質な輸入品を採用し、信頼性があり、使用壽命が長い；頂部及び裏面に吸気口を設置し、空気汚染を防止するため、ユーザーが排気パイプを外付けする必要があります。本設備はタッチパネル及びPLCコントロールの半自動コントロールシステムです。作業(yè)者は洗浄カセットを濕式ユニットモジュールのクランパーに置いて、事前にインストールしたプログラムにてwaferの各プロセス処理を実施します。 洗浄能力:8inch wafer；

產品詳情


製品詳細：

項目

説明

設備型番

CGB-SSC-XX；

設備重量

XX

洗浄能力（ユーザーがカセットサンプルを提供する）

8inch wafer；

処理方式

一枚ずつ処理、人が手動でwaferを置き、出し入れ（入出時は乾燥狀態(tài)）；

生産能力要求

濕式洗浄プロセスXXXXPcs/月（＜30min/run，50PCS/Run，22時間/日，26日/月で計算、予測値）；

設備型式（清浄度：クラス1000級）

室內置き型；

設備カバー、主要構造の材質

ポリプロピレンマグネティックホワイトPP10T（）；

SUS304単鏡面板材1.5T（√）；

設備操作ステージ

材質

透明、靜電防止ポリ塩化ビニルPVC5T（）；

SUS304単鏡面板材及び強化ガラス5T（√）；

モード

上下昇降式（）；

左右プッシュプル式（√）；

設備本體強度構造

全體SUS304ステンレス構造骨組；

漏水防止トレイ

材質

ポリプロピレン　マグネティックホワイトPP板材；

モード

分割式、各辺サイズは設備本體より50mm長い；

液漏れ検査裝置

材質

腐食防止材質；

ポイント式

シングルポイント式；

その他

水平調整

設備アンカーで設備水平度を調整；

設備移動

設備移動用のため、設備に樹脂車輪を取付け

ステージ板

材質

約￠12mm、穴抜き構造、ポリ塩化ビニルマグネティックホワイトPP板材（√）；

約￠12mm、穴抜き構造、SUS304単鏡面板材（）；

モード

取外し式（√）；

一體式（）；

排気システム

排気口位置

設備背面上部（√）；

設備背面（）；

排気経路構造

1）排気強さを合理に設計することで、排気効果がベストになる。排気通路中に風量ガイド板を設置；

2）操作者は小範囲で設備排気バックプレーン上の取外し式(生成可能な結晶を清掃し易くするため)排気フェンスを調整し、設備窓上部の調整可能の吸気モジュールを使用して配合調整することで、効果がベストとなる；

3）設備排気通路の底部に排液パイプがある。凝縮還流の廃液をパイプを通して、設備U型ウェットエリアに排出し、QDR排出した廃水と混合希釈し、設備後の工場廃水専用パイプに排出する；

設備の電気制御システム

設備本體の後ろに取付;タッチパネル及び電源スイッチ、照明等は設備正面に取付。各槽體のプロセスフローは全てPLC、タッチパネル、溫度調整器、センサー等で組合せ。設備は通電手動操作リセット機能を持っている。設備毎にXセットのプロセスレシピを保存できるため、作業(yè)者はタッチパネルで事前に編集したプロセスレシピを呼出して使用する。ソフトウェアはプロセスのパラメータ設定、手動メンテナンス、自動運転、狀態(tài)モニター等の畫面を持っている。ソフトはエラー情報、履歴記録、メンテ情報等のシステム記録機能がある。ソフトは3級パスワード権限設置もあり：設備作業(yè)者、設備エンジニア、プロセスエンジニアにそれぞれ応じた権限にて管理；


規(guī)格特徴：

01）プロセス説明:手動方式で製品搬送を実現；
02）全工程で自動化コントロールし、作業(yè)中は人の干渉がなく、製品性能の均一性を保証する；
03）回転スピンドル及びスキャン洗浄アーム回転補助シャフトの摺動は全て日本製サーボモータを採用、クローズループ制御、位置決め精度≤1mm，信頼性が高い；

04）システム急停止スイッチと回転スピンドルモータ自動過負荷保護等の多重保護があるため、作業(yè)者の安全を確保する；
05）回転スピンドル及びスキャン洗浄アーム回転補助シャフトの安定摺動で、過負荷保護を持っている；

06）配管設置を改善し、薬液消耗量を節(jié)約する；

07）柔軟な設計により、プロセスの変更は容易で、速い；

08）多數のプロセスデータベースはユーザーによって使用と保存される；

09）設備全體は使用運転中、安定、かつ安全で、異物を発生しない、油漏れもない。潤滑必要な部品は密封処理必要、グリスを定期的に交換必要；

10）設備全體は全密封設計を採用。設備運転ピークの騒音が小さく、且つ操作、メンテナンスし易い；

11）設備全體は酸溶液とアルカリ溶液及び揮発気體の腐食を抑えられるので、電気部品は正常に安全使用可能；

12）設備に緊急停止回路（EMO異常停止ボタンは設備の両側にそれぞれ1つずつ）を設置し、標準にてアース保護遮斷器を設置する；

13）設備全體は前後エリアを隔離し、底板は傾斜設計し、液排出し易い。一番低い所に液漏れアラームを設置する。前後エリアにそれぞれにウォーターガンを設置することで、液漏れ時に直ちに洗浄できる；

14）洗浄槽體及び配管に明確な標識或いはミス防止の表示があることで、溶剤誤混入防止ができる；

15）合理的に排気パイプを設計することで、酸溶液とアルカリ溶液の揮発気體の汚染が最小化にできる；

16）各プロセスパラメータの限界オーバー、非正常加工処理條件、非正常操作、薬液不足、液溢れ等の異常検知アラームシステムと安全保護裝置がある；

17）生産履歴、故障履歴等の記録は保存時間を設定できる。長期的に調べることも可能；操作簡単；プロセスパラメータのデジタル表示検査、アラームレベルを分け、緊急狀況、限界オーバーなど；故障を事前に予知、故障原因を調べやすい；

18）ソフトはマルチスレッド、ユニットモジュール化の設計を採用し、1つユニットモジュールが故障しても他のユニットモジュールのプロセス加工に影響しない；

19）DIWガン及びN2ガンは1セットずつを設置；

20）設備の総給水口に水抵抗器検査裝置（信號アラーム裝置付き）を取付け、且つ0.2usフィルターを追加；

21）設備の総給水口に（N2或いはCDA）圧力検査裝置（信號アラーム裝置付き）を取付け；

22）設備の頂部に10級FFUを設置；

23）設備頂部に靜電除去裝置を設置；